上海微电子新一代前道光刻机平台模型亮相进博会
芯-2 · 早间速报 09:00 · 11-08 报道（进博会 11-05 至 10 举行期间）
一句话 上海微电子新一代前道干式光刻机通用技术平台模型在进博会展出，采用标准化架构，适配 I-line 和 KrF 两类技术路线；高精度物镜与照明系统、双工件台、掩模台等实现自主可控。
公司称相关设备已在国内逻辑和存储芯片量产线长期运行，累计支持流片超千万片，设备有效运行率超 92%。
待核项 待核项：仅见观察者网硬科技早报单源，"累计支持流片超千万片、设备有效运行率超 92%"为公司自述口径，未获其他来源交叉；机型技术代际（I-line/KrF）须与上微官方口径核对
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观察者网硬科技早报（）2026-11-08